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作者 | 黄晶晶
独创性（Originality）首先出现在著作权立法中，由于著作权法对于具有独创性的表达的保护已经有几百年的历史，独创性内涵较为完整、合理。因此认定布图设计中的独创性可以从分析、借鉴著作权法中的独创性着手。
在著作权法中，关于什么是作品的独创性,学术界在理解上尚未形成共识。
一种观点认为:作品的独创性是指作品创作过程的独立性，只要一部作品由创作人独立完成而并非剽窃、抄袭他人的智力成果，那么该作品即具有独创性。
另一种观点则指出:只要作品的安排、材料的选择或者发表的过程具有创作人的个性特点即可认为作品具有独创性。
也有观点参照大陆法系的理论,对独创性提出了更高的要求，认为应将“一定的创作高度”作为独创性的判断标准。不同著作权法制度中对独创性的认识的差异根源于各国对“创作”的认识不同。
但综合上述的观点，各种著作权制度在一点上是统一的，即作品的独创性应当至少意味着，作品是作者独立完成的。这点与布图设计的独创性“独”的要求是一致的。
此处需要注意的是，布图设计独创性所要求的“独”具有明显的相对性。集成电路布图设计的创作是一个主观见之客观的过程，创作者的设计理念和思路随着布图设计的形成被逐渐地体现在布图设计的载体上，最终形成的布图设计本身实则是这种智力成果的外在表现形式。这种对布图设计的创作状态,即是“独创性”。可以看出,“独创性”本质上是由集成电路布图设计创作的过程而产生。然而，正如法国学者加布里曾断言的:“Societyisimitation”，任何创作实质上都需对他人的智力成果进行适度模仿、借鉴。不以现有成果为基础的完全意义上的创造并不存在。任何著作的产生都是源自已有作品的启迪。“新旧作品之间的关系实际上非常类似于物种间的继承关系。新作品既必须具有其特有的性质和价值而
与已有的智力成果、当下的社会环境具有深刻的联系。”
这种继承关系不仅体现在著作权作品的创作中，在集成电路布图设计的创作中尤其明显。因为，布图设计最终是为工业利益服务的，每一个布图设计都在追求更强的市场竞争力，而这必须建立在改造或改进现有布图设计的基础上。
集成电路布图设计独创性的相对性主要表现为两点:第一，不同创造人针对同样的题材、内容、思路设计的相同布图，可以同时被授予专有权，需要注意的是，这里的“专有权”和专利法上的“专有权”有着本质的区别，即布图设计不要求其“专有权”具有唯一的特性，而仅仅意味着权利人享有类似于著作权上的“禁用权”。其二，“独创性”不苛求设计者的作品完全源自其原始独创。事实上，布图设计的创作早已不再是“闭门造车”的时代，法律允许创作人“站在巨人的肩膀上看世界”，只要其最终的布图设计作为整体是创造人独立选择、设计的成果，体现了一定的价值，则独创性允许设计者在合理范围内模仿、借鉴他人的作品。当其设计元素在当时行业内是非常规的，那么就应当认为该布图设计具有独创性。其中最常见的是，反向工程之后，在现有布图设计的基础上设计出第二布图设计，若具有独创性则可申请专有权的保护。这里的第二布图设计或多或少有部分不是独立创作的，但第二布图设计仍有获得独创性的可能。
集成电路布图设计的独创性与著作权作品的独创性最大的区别在于，布图设计的独创性还要求“非常规性”。“非常规性”的概念不属于《著作权法》,而与《专利法》所要求的“非显而易见性”有些类似，笔者认为，正如“非显而易见性”是对发明创造创作高度的要求，“非常规”乃是对布图设计创作高度的要求。
根据美国众议院的报告,“非常规性”的规定要求受保护的布图设计作品必须具有某种程度的创造性。关键问题在于，对受保护的布图设计在创造性方面的要求最低下限是什么，即何种创作高度的创造性才能达到布图设计独创性的标准。布图设计创作高度的认定是独创性认定的精髓，由于创作高度问题作为一个抽象的程度概念，难以把握和度量，法律和实务均未给予规定和指导，因此饱受争议。