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一、布图设计权的内容
布图设计权在内容上分为复制权和商业实施权两部分。
在集成电路产业界采用反向工程的方法了解他人产品已成为惯例。所谓“复制权”是指布图设计权人有权复制或许可他人复制其布图设计之一部或全部除法律另有规定外未经权利人许可任何第三人不得复制受保护的布图设计无论是复制局部或者全部。布图设计保护法中把利用反向工程而复制的行为作为例外来处理这与著作权中的复制权是不同的。这里的复制权的外在表现与著作权法中的复制权相同但仔细研究其效力还是有一定差别的。如果简单地对此加以限制那么必将抑制集成电路技术的发展速度。单纯为分析、研究或者教学目的而复制他人受保护的布图设计不视为侵权。不仅如此为了鼓励技术改进对于在此基础上根据分析、研究结果再设计出具有独创性的布图设计也不视为侵权。世界上其他国家和国际组织制定的国内法和国际条约中无不有类似规定。我国的《集成电路布图设计保护条例》亦有类似规定。
集成电路产业发展到今天已逐渐分化成三大组成部分设计业、芯片制造业和后道封装业。这导致集成电路设计逐渐独立出来从而成为专门的一个行业。在集成电路保护法中单独设置一项布图设计的复制权是为了适应集成电路产业化分工越来越细的发展趋势。这种分化是集成电路产业走向成熟的表现。为了充分地保护设计人的权益有必要专门规定布图设计的复制权。这种分工精细化在法律上应当对予以肯定。
所谓“商业实施权”是指布图设计权人可以或者授权他人将其受保护的布图设计投入商业实施。那么反过来布图设计权人有权禁止他人将受保护的布图设计投入商业实施。我们至少应当从两个方面来考虑探讨商业实施权一是从权利内容二是从权利效力。布图设计的价值只能通过商业实施来实现如果布图设计人不享有这一权利那么就难以充分保护其权益。
商业实施权可以包括这样一些内容布图设计权人有权为商业目的进口、销售、出租、许可实施或者为进口、销售、出租、许可实施而展示以及以其他方式扩散受保护的布图设计或者禁止他人未经其许可而有一前述行为。在实践中并非所有国家和地区在法律上都对这些权利作了详细的规定有关集成电路的国际条约也没有这样详细的规定权利内容。这就是说布图设计权人可以享有进口权、销售权、出租权、许可权、展示权等权利。一般而言国内法未作详细规定往往是出于各国国情的考虑而国际法未作详细规定则常常源于考虑到各方利益后的妥协。依此规定布图设计权人享有进口权和散布权两项内容。
商业实施权的效力原则上可以延伸到直接使用布图设计的物品比如集成电路产品或者含有布图设计的磁盘、磁带、掩模板等物质载体。对此各国法律以及现有的相关国际条约均无异议。关键在于这一权利的效力能否无限制地延伸至使用了包含有受保护的布图设计的集成电路的物品上各个国家基于各自利益有不同的主张。发达国家主张将布图设计权的效力无限延伸希望在任何一个环节都可以追究侵权责任而发展中国家则主张有限延伸并不希望在电子产品的整机阶段还受布图设计权人的牵制。各种学术理论在这里只是微不足道、一折即断的枯枝因为在这背后有着各自的利益。在这里真正起决定作用的是“利”而不是“理”。
集成电路布图设计的保护范围在《与贸易有关的知识产权协定》中界定为为商业目的进口、销售或者以其他方式扩散受保护的布图设计、含有受保护的布图设计的集成电路以及含有该集成电路的物品仅以其持续包含非法复制的布图设计为限。这些规定应世贸组织的协定在整体上体现了发达国家的要求尤其是美国的意志。中国已经加入世界贸易组织故国内法在集成电路方面也必须满足协定之要求。布图设计权的效力根据该协定显然被理解为可以无限延伸。
二、集成电路布图设计专有权的产生条件
布图设计除了具备工业产权保护对象的技术功能外还具有做图方面的美观特性受法律保护的集成电路布图设计必须是设计人独立创造且这种布图设计在集成电路行业中还必须是非普通或者是非常规的设计。因此应在著作权法独创性原则的基础上辅之以一定的创造高度要求。美国的《半导体芯片保护法》对于不具备独创性或在半导体工业中司空见惯、普通的或熟知的设计或者从整体组合来看并无独创性的这种布图设计的各类变化形式不给予法律保护。现有的两个与集成电路知识产权有关的国际公约也都采用这一原则我国的立法也遵循了这一原则。目前这一原则已经取得了各国立法上的认可。
布图设计权产生的形式条件通常有三点受保护的布图设计需固化到集成电路芯片中。这一要求是由布图设计的特性所决定的因为布图设计不但具有著作权保护对象的外在特性更主要的是还具备工业产权保护对象的特性。以上两点得到了世界知识产权组织《关于集成电路知识产权条约》的认可。该布图设计必须投入商业实施。若将布图设计作为一种图形作品依著作权法可以不必投入商业实施但此时享有的权利只能是著作权。集成电路作为一种工业产品实现其价值必须通过商业实施因而这一要求是合情合理的。受保护的布图设计必须办理登记手续。根据我国《集成电路布图设计保护条例》的规定布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生未经登记的布图设计不受本条例保护。布图设计作为一种技术性设计对于这类保护对象通常要求当事人办理有关登记手续。布图设计登记申请经初步审查没有发现驳回理由的国家知识产权局应当颁发布图设计登记证书并在国家知识产权局互联网站和《中国知识产权报》上予以公告。布图设计专有权自申请日起生效。
关于集成电路布图设计权的保护期问题世界知识产权组织《关于集成电路知识产权条约》的最低要求是不低于8年。其他各国立法中多规定为10年。在世界贸易组织的知识产权协议中关于集成电路布图设计的保护期规定为年。相应的我国规定了10年的保护期。
三、设计专有权保护的客体及其要件
依据《华盛顿条约》和我国《集成电路布图设计保护条例》的规定,集成电路是指以半导体材料为基片,将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之匕以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品。芯片的产生通常包括了两个过程,即逻辑设计和工艺设公。逻辑设计,是以问题解决或功能实现为目标而利用导线将诸如寄存器、存储器等基本的逻辑组件连接成一个网表的过程。这一过程基本上是对公知的科学原理的直接应用,设计者是不能将其据为己有的,因此这个步骤中不存在知识产权保护的问题。第二步骤是布图设计的完成。这些互连的层次应当尽量以最小的面积实现集成电路的设计要求和满足工艺规范。集成电路的布图设计也常被称为掩膜设计另外还有布局设计、版图设计等,是因为布图设计惯以一组类似于照相底片的图形表现出来。布图设计作为一种抽象无形的“设计”,可以为各种形式的载体所体现,故而法律要同时兼顾对中间产品和最终产品的保护。布图设计是根据前一步骤的网表以及根据生产制作工艺的规范要求,对集成电路中所有元件及连接各元件之间的连线进行几何配置和布局。集成电路的布图设计通常都是经过二维向三维的转化过程,而不是一开始就是以三维的形态出现。因此法律所保护的布图设计是一种抽象的表达。只有在布图设计完成之后,刁`能依据布图设计,通过多次光刻、腐蚀、扩散、离子注入、氧化和积淀等各种制作工序,将这些相关图形逐一叠加、套刻在半导体芯片上,形成三维的布局结构,最终实现集成电路的设计功能。
作为一种工业作品,集成电路布图设计与传统的作品不同,法律对它的保护要特别考虑工业上的应用性。既然我们倡导以版权法为主导的集成电路布图设计保护模式,就必须首先以构成作品的要件来确定法律保护的布图设计。版权法对作品的要求是具有“独创性”和可以以有形形式复制。而通过上述对布图设计开发过程的研究,我们发现一般的布图设计都是凝聚了设计者的艺术创造力并以各种有形形式表现的,即是符合版权法的一般要求的。我国《集成电路布图设计保护条例》阐释了这种独创性的高度,认为受保护的布图设计应当具有独创性,即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果,并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。受保护的由常规设计组成的布图设计,其组合作为整体应当符合前款规定的条件。这与现实的要求有一定的差距,它希望我们可以有更为全面的保护体系。由此可见,集成电路布图设计的独创性要求应当是设计者“自己创造”并且为该领域的“非常规设计”。
成电路布图设计上都未有过强制许可的实践,如何利用以及在什么领域、何种程度上利用这一制度仍然是一个需要仔细研究商榷的问题。到目前为止,专利的强制许可制度只在南非等少数几个非洲国家被实行过,而且引起了发达国家强烈的不满。
四、布图设计权在知识产权体系中的地位
布图设计权的效力在延伸至集成电路产品本身之后,是否还应当更进一步延伸到用集成电路产品组装出的产品如仪器、设备等整机的问题,应当结合布图设计权在知识产权体系中的地位来进行分析。尽管各国的立法在集成电路布图设计权的效力模式上大多采取了“无限延伸论”的做法,但仅就理论而言,布图设计权的效力还是不应当采用“无限延伸论”。
集成电路保护法所保护的直接对象是布图设计。各种社会利益关系通过法律达到平衡。对于集成电路保护法而言,一方面要保护布图设计人的利益不受侵害,另一方面也要考虑到公众利用集成电路的方便。不能因为保护集成电路布图设计人的权利,而造成不合理的技术垄断的局面,不利于公众方便利用集成电路。与著作权法相比,由于布图设计受保护的条件高于著作权法对普通作品的要求,因此布图设计权的专有性效力就应当高于著作权。因为布图设计具有作品的外在特征,所以在保护方式中引入了著作权法中的一些原则和方法,比如原创性原则、保护复制权的方法等等。相对于其他技术获得专利的保护,布图设计作为一种技术方案获得专利保护要容易得多。这是一种利益平衡的结果,这种利益平衡的原则应当适用于整个法律体系。与专利权相比,布图设计权的产生条件已经降低了很多。因此,考虑到公众的利益,布图设计权人的权利效力或专有性程度就应当比专利权低。
另一方面,对于专利法而一言,任何国家的专利法都要求被授予专利的技术必须清楚、完整、全面地公开其全部内容。在这样的条件下,布图设计权利人仍然像专利权人一样亨有效力可以无限延伸的专有权,对公众而言,不利于公众方便利用,是极不公平的。之所以专利法对专利权人的技术给予保护,是因为专利权。
五、对布图设计专有权的限制
对集成电路的权利,法律在进行保护时必然要考虑到社会公众的受益和文化传承的继续,而对其作出一定的限制。一方面应以立法保护布图设计人的利益,另一方面也要兼顾社会公众使用集成电路布图设计的方便。不能因为保护布图设计人的利益而阻碍布图设计正常利用,开发,甚至造成技术垄断局面。现行法上集成电路布图设计专有权所受的限制主要有以下几个方面。
1、反向工程,又称还原工程,是指对他人的布图设计进行分析、评价,然后根据这种分类评价的结果创作出新的布图设计。反向工程之所以被视为合
法,在于鼓励人们设计出功能相似但集成度更高、速度更快、成本更低廉的集成电路产品。当然,合法的反向工程本身也必须满足一定的条件。,对在反向工程过程中复制的他人的布图设计不能进行商业利用。,构成反向工程的行为,其直接目的必须是对他人的布图设计进行分析、评价、用于教学或在他人布图设计的基础上创作新的布图设计。,利用反向工程所创作出的新的布图设计必须符合独创性的要求即原则上它不能与被进行反向工程的集成电路布图设计完全相同。
2、合理使用,集成电路布图设计也是工业作品,版权法第条有关对作品进行合理使用的规定则当然地适用。我国现行的《集成电路布图设计保护条例》
第条第一项的规定也可以视为是有关合理使用的规定,即“为个人目的或者单纯为评价、分析、研究、教学等目的而复制受保护的布图设计的”可以不
经布图设计权利人的许可,不向其支付报酬。从就某种意义而言,反向工程是一种特殊的合理使用行为,其最为特殊的地方就在于通过反向工程开发出来的新的布图设计可以投入商业使用。
3、权利穷竭,也称权利用尽或首次销售原则,是指布图设计专有权人或经其授权的人将布图设计或含有该布图设计的集成电路产品投放市场后,对与该布图设计有关的商业利用行为,不再享有控制权。就是禁止知识产权的滥用,避免会损害消费者的利益和阻碍商品的正常流通。
4、无知侵权,也有学者称之为善意买主,是指如果一个人不知情购买了含有非法复制的受保护的布图设计的集成电路产品,而将该产品进口、销售或从事其他商业利用,在其知情之前不追究其侵权责任。
5、强制许可,是指依据法律的规定,在国家出现紧急状态或者非常情况时,或者为了公共利益的目的,或者经人民法院、不正当竞争行为监督检查部门依法认定布图设计权利人有不正当竞争行为而需要给予补救时,国务院知识产权行政部门可以给予使用其布图设计的非自愿许可。我国不管是在专利领域还是集人公开了其全部技术方案。同样,作为技术方案的布图设计,从现行法律制度看并没有一套公开的制度去要求布图设计应该公开哪些内容,一些国家或地区甚至还规定交存于登记机构的涉及技术秘密的布图设计图纸还可以加以覆盖。从这种意义上讲,布图设计权也不应当具有同专利权等同的效力。在现有的知识产权体系下,是否有法定的公开程序也是决定权利效力强弱的标准之一。在现有知识产权体系中,布图设计权也应当是位于著作权和传统工业产权之间。在效力方面上,布图设计权的效力只应当适当地延伸至集成电路产品本身,而不应当再进一步延伸到二次产品上,也就是说布图设计的效力是在一定的范围内适用,而不是所有相关领域都适用的的。
综上所述,从法律的角度上看,集成电路法律保护是一个综合性问题。依据民法中的有关所有权的规定,对于一个具体的集成电路产品来说,它就可以受到保护,权利人的合法权益就会得到相应的保护。其中,集成电路布图设计由专「法加以保护,由此而产生的布图设计权属于一种独立的知识产权。经现实证实,随着科学技术的发展,一些类似的新权利将会随之而出,即使是一些传统的权利类型也可能会派生出一些新的权能。对于利用集成电路从事犯罪活动的,行为人应当受到刑法和民法的制裁,维护国家,社会和公民的权益。作为人类智慧结晶的集成电路技术,理所当然地应当受到知识产权法的保护。