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作者 | 郝敏
一、专利法的保护
专利法无论在哪个国家，都要求受保护的技术方案必须具备实用性、新颖性和创造性。集成电路产品对于实用性和新颖性要求都不会有太大问题，而问题的关键症结在于创造性。由于集成电路产品自身的技术特点，使其绝大多数难以满足严格的专利制度所提出的要求。主要在于专利法所规定的保护条件，对于集成电路而言过于苛刻。这一要求导致大多数集成电路品种无法得到专利法的保护。具体原因如下：
第一，集成规模的大小不仅是集成电路本身技术水平高低的标志，同时计算机时代的划分也是以其硬件所采用的不同规模的集成电路为标准的。半导体存储器从大规模到超大规模，继而再到特大规模、巨大规模，尽管在一定阶段其设计方案会有一些变化或改进，但从存储器整体上看，其基本技术在相当大程度上仍为已有技术，其基本原理和构造不会发生本事的变化。按照专利法的严格要求，简单的规模扩展是不具备创造性的。因此，它未必能作为一个整体受到专利法的保护。其表现为，集成度高的集成电路产品未必就一定具备专利法上的创造性。
第二，如今，设计集成电路布图全部采用计算机辅助设计方法，所采用的常规单元电路在实践中已为人们所熟知，其中一些己经是最优化设计，其表现形式是有限的，甚至也是惟一的。在集成电路设计中，尤其是设计一些规模较大的电路时，设计人常常采用一些现成的单元电路进行组合。现在的集成电路布图设计几乎都是以“搭积木”的方式将现有的电路单元组合而成。而在严格专利审查中，组合发明要通过创造性审查，必须取得对该发明创造所属技术领域的普通技术人员来说是预先难以想到的效果。这类单元电路组合所得结果，在通常情况下根据己有知识可以事先预测，不会产生意想不到的结果。
当然，这绝不意味着所有的集成电路发明创造都不受专利法保护，那些确实具备创造性的集成电路产品仍可申请专利以寻求保护。我们承认，专利法作为保护技术方案的传统法律，在保护的力度上确实十分强。如能获得专利权，那么仍为保护集成电路产品的上佳选择。
因为集成电路产品在技术构成方面最注重规模的扩张，即量的增加。而专利法的创造性条件则要求受保护的发明创造必须具备质的变化，即必须具备其自身的实质性特点，而这一点却是大多数集成电路产品不具备的。所以专利法固然在原则上可以适用于集成电路的保护，但在实际操作中仍然存在着很多不尽如人意的地方。这一要求便把众多集成电路产品挡在了专利法大门之外。
二、著作权法的保护
正因为专利法对集成电路的保护不尽如人意，人们不得不另辟蹊径来保护集成电路，通过保护布图设计的方式来达到保护集成电路的目的。但是著作权法对布图设计的保护存在局限性。例如，在芯片开发过程中，常采用反向工程的方法来了解其他厂商的产品性能和技术水平，从而开发出与已有芯片兼容或性能更优越的产品。若用著作权法保护集成电路，则实施反向工程的行为即构成侵权。
当集成电路的载体为掩模版时，只需对全套掩模版加以翻拍，即可复制出全部的布图设计。当布图设计以磁盘或磁带为载体时，同样可以用通常的磁带或磁盘拷贝方法复制布图设计。正是这种可复制性，体现了布图设计和著作权的相似之处，从而直接导致了著作权法的某些保护原则和手段可以适用于集成电路布图设计。但是，布图设计毕竟不同于普通作品，如果将这种具有实用性的布图设计单纯地依靠著作权法所能提供的方式来保护，结果差强人意。从理论上讲，主要表现在以下几个方面：
第一，采用先进的布图设计便可能生产出性能优良的集成电路，从而给布图设计的使用人带来丰厚的利益。集成电路布图设计的价值，主要体现在其实用功能上，但是这已超出著作权法所保护的范围。布图设计中的技术因素正是其价值所在，也是真正需要保护的对象。但这也是著作权法所不能及的。这对布图设计而言显然不妥。长期以来，在工业产权和著作权之间一直存在着一条非常明确的界限，即实用与非实用的二分法。著作权法所调整的对象仅限于非实用的作品，对于这种技术效果显然是有些无能为力的。
第二，著作权法对所保护的对象没有像专利法中的新颖性和创造性要求，这种保护模式非常不利于技术进步和创新。而集成电路布图设计具有极为浓厚的技术色彩，其价值的高低取决于该布图设计在技术上的难和新。如果对那些平庸的、为专业技术人员所熟知的布图设计进行保护，不仅起不到促进技术发展进步的作用，反而会扼制技术人员在现有技术基础上进一步创新。但是对作品而一言，只要是作者独立创作完成的，不论其艺术水平高低，也不论此前是否有相同或类似作品问世，一律受到著作权法的保护。所以，这就非常的不利于我们鼓励技术的创新和改进。
第三，集成电路不同于作品，它是一种电子产品，其电子功能的实现有赖于布图设计特定图形的组合。对于普通作品，其表现形式通常是没有限制的，同一思想或观点，不同的作者可以采用完全不同的形式来表达，形成百花齐放，百家争鸣的局面。布图设计直接与一定的电子功能相联系，因此受到来自技术、功能、材料、自然规律等诸多因素的制约，表现形式非常有限。这种表现形式的有限性主要表现在以下几个方面生产工艺水平的限制。为了提高集成电路的集成度或者追求高频特性，常常需将集成电路中各元件的面积减小。这样，布图设计的线条宽度也相对较细。但如果将线条设计得太细，以致工艺难度太大，将会大大地降低集成电路成品率和可靠性，这是极小经济的。相反，一味地追求功率参数，将芯片面积增大，也会降低集成电路的成品率。无论那个方面，都存在了比较大的限制。布图设计图形的形状及其大小受到集成电路功能参数要求的限制，还受到一些物理定律以及材料类及其特性等多种因素的限制。所以，从技术上，集成电路存在着很多的现实，将这样一种表现形式可能有限的布图设计作为著作权法的保护对象显然是不妥的。
第四，在著作权法中，实施“反向工程”的行为将被禁止。依照著作权法，未经著作权人同意，任何人不得随意复制他人作品。如果实施反向工程，通过解剖、分析，了解他人产品的功能、参数特性，以便设计出与之兼容的产品，或者在他人产品的基础上做进一步的改进，从而制造出在技术上更加先进的集成电路，则应当认为是合理、合法的。这对产业发展和技术进步是十分必要的，是产业发展中一个重要的手段。著作权法中关于合理使用的规定仅仅适用于复制他人作品的一部分，或者完全属于个人使用的目的。布图设计的保护应当在一定条件下给予实施反向工程的特许，而不宜直接照搬著作权法中有关复制权、演绎权的规定。
保护布图设计的终极目的毕竟还是为了促进技术进步，因此还应当照顾到公共利益，以便他人在一定程度上可以借鉴现有的先进技术。法律应当允许有关当事人为分析、研究集成电路的技术、特性目的而复制他人布图设计的行为，但并允许将复制的布图设计直接再投入集成电路的生产，从而获得经济效益。所以我们的保护也需要随着生产力的发展进行调整，从而最大的限度的保护合法权益同时又促进生产力的发展。尽管布图设计在外在特征上具备作品的可复制性，但若直接适用著作权法保护布图设计肯定达不到预期的目的。
三、其他知识产权法的保护
还有实用新型法、外观设计法、商标法、反不正当竞争法、保护法、原产地名称保护法等等存在于现有的知识产权法框架中商号或企业名称。其中有的法律与集成电路不相干，如原产地名称保护制度与集成电路这种纯粹的工业产品间似乎没有关系，不可能用来保护集成电路或者布图设计。
集成电路产品的创新点一般并不体现在产品的外在结构和形状上，加之集成电路在创造性标准上可能难以过关，一些国家实用新型的保护期又非常短，故从总体上看实用新型法似乎并不适合集成电路的保护。在现有的诸多知识产权法律门类中，实用新型法虽然是保护技术产品的法律，但是绝大多数国家和地区的法律都要求受保护的实用新型都必须是具备固定形状或者结构的产品有的还要求实用新型也必须具备创造性。所以，也是不适合作为集成电路的保护法律的。
外观设计法所保护对象的是产品的新颖外观。即使就集成电路芯片而言，尽管在芯片表面上附着集成电路的最上层的布图设计图形，但恐怕任何一个国家的外观设计法都不会对这种只有在显微镜下才能看清楚的图形加以保护。外观设计法，可以保护的外观，却无法保护的内在电路。
商标法的保护对象决无任何技术成分可台`。商标法所保护的是特定标一记与特定产品间的联系。商标法可以从商标的角度对集成电路给予保护。很显然这不是集成电路保护所讨论的问题。
至于反不正当竞争法、商号或企业名称保护法等在集成电路保护上所发挥的作用应当与在其他领域中的作用相当。无论是低毁他人商业信誉、窃取他人商业秘密，或者盗用他人企业名称等，在集成电路产业中的表现一般不具有特殊性。
美国于年颁布的《半导体芯片保护法》，该法列在美国法典第编，却并不属于第编中的版权法，而是一部独立的法律。这是世界上第一部专门的集成电路保护法。现行知识产权法律框架中的各种部门法在保护集成电路方面都存在着一定的局限性，致使人们对集成电路保护方式没有统一的意见，最终选择了以特别法的方式保护集成电路。此后，日本、西欧各国相继效仿，都以特别法的形式颁布了各自的集成电路保护法。有学者认为，美国《半导体芯片保护法》是继《拿破仑法典》之后，为各国法律引用最多的法律。
在我国，年由原电子工业部牵头，成立了《集成电路布图设计保护条例》起草组。起草组对当时各国已经颁布的有关集成电路保护的法律进行了研究和对比，并参照了华盛顿条约与世界贸易组织的协定，通过十年的努力修改完成了立法任务。应该说，我国长期以来对集成电路知识产权保护问题是非常重视的，在积极参与华盛顿条约制定的同时，便开始研究国内立法的问题。我国的《集成电路布图设计保护条例》在2001年3月28日国务院第38次常务会议上获得通过。这个条例的公布，标志着我国结束了集成电路布图设计保护无法可依的时代，同时也直接反映出我国政府迎接信息时代、发展信息产业的决心。
笔者认为，我国从参照华盛顿条约与世界贸易组织的相关协定订立属于我们自己的集成电路布图设计保护法，到将这一专门法应用于生产实践中，乃至2010年首次法官根据《集成电路布图设计保护条例》首次审结集成电路布图专有权案例，这反映了我国在知识产权法领域的长足进步。