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作者 | 马 骏，男，湖北江陵人，合肥工业大学文法学院讲师，法学博士；研究方向：知识产权法学。
摘 要： 集成电路知识产权是伴随着信息时代的来临和集成电路产业的兴起而产生的一种新型、独立的知识产权。由于各国在经济发展水平、制度理念上的差异，决定了保护实践上的差异。西方发达国家崇尚权利的无限保护思想，坚决抵制或严格限制对集成电路知识产权权利范围的种种限制；发展中国
家则强调对集成电路知识产权的有限保护，允许为了公共利益而对集成电路知识产权的保护有所限制。作为发展中国家的我国，应立足于当前的时代背景和本国的实际情况，做出理性的选择。
关键词： 集成电路；布图设计；知识产权；研究
一、 引言
集成电路是当代信息技术的核心和基础，英文简称 IC，又被称之为芯片，它是将电阻、电容、晶体管等元件通过一定的线路固化于一定的固体材料上，从而使之具备一定的电子功能的产品1。随着信息时代的来临以及信息技术的不断发展，集成电路布图设计作为一种新型的知识产权应运而生。如何通过立法来实现对这种新兴知识产权的保护，成为了摆在世界各国面前的现实问题。
美国于 1984 年首次通过《半导体芯片保护法》，实现了对集成电路知识产权的保护，在该法律中，受保护的对象是半导体集成电路的布图设计，并将这种设计称之为“掩膜作品”。
该法对掩膜作品进行了详细定义，并将其作为一种独立的知识产权加以保护。继美国之后，日本、欧共体、瑞典、德国、英国也先后通过专门立法来实现对集成电路知识产权的保护，尽管在称谓上存在一定的差异 2，但将半导体芯片设计作为一种独立的知识产权加以保护，却是各国的共识。在世界各国立法的推动下，1989 年，世界知识产权组织通过的《集成电路知识产权保护条约》（又称华盛顿条约）则更是以国际公约的形式，第一次全面、系统地规定了集成电路知识产权的保护，这些内容主要涉及集成电路的含义、集成电路布图设计的概念、权利范围及相关限制、保护期限等问题。
1994 年世界贸易组织通过的《与贸易有关的知识产权协定》（TRIPS 协定）肯定了《华盛顿条约》中的集成电路布图设计的外延和内涵，并在权衡各国利益的基础上对保护期限、保护范围以及善意侵权等问题进行了修改。
为了顺利加入世界贸易组织，充分实现对我国集成电路知识产权的保护，2001 年，国务院率先通过了《集成电路布图设计保护条例》，这是我国首部规范集成电路知识产权保护的专门法律，它体现了我国将集成电路的布图设计作为一种独立、新型的知识产权加以保护的立场。继国务院之后，其他相关部门也陆续出台了一些相关规定和实施办法3，进一步充实了保护的内容，为我国集成电路知识产权的保护提供了法律依据。在经济全球化和国际技术交流与合作日益频繁的时代背景下，对中外相关保护制度进行比较研究，有助于立足本国国情，充分借鉴国外的先进经验，实现对集成电路知识产权的最佳保护效果。
下面将从权利客体、权利主体、权利范围及限制三个层面来对我国与境外的集成电路知识产权保护制度进行比较分析。
二、集成电路知识产权的权利客体
集成电路知识产权保护的重心不是集成电路，而是体现在集成电路之上的作为智力成果形态的集成电路布图设计，这在学界已达成共识。究竟符合什么样条件的集成电路布图设计才能受到保护，各国法律以及相关的国际条约一般都是从实质和形式两个层面来界定的。
从实质条件来看，各国一般都认为，集成电路布图设计要受到法律保护，必须具备独创性。如根据美国的相关法律，独创性首先要求掩膜作品必须由设计人独立完成，排除抄袭他人的情形，即具备原创性；其次，独创性还要求作品设计不能是平庸的、司空见惯的、众所熟知的，必须具有一定的进步意义。组合作品并不要求各部分具备独创性，只要从整体上具备了独创性即可。这种立法规定体现了布图设计不仅是智力成果，更是具有一定创造性的智
力成果，俄罗斯也有类似的规定。此外，《华盛顿条约》第 3 条第 2 款 a 项对独创性的内涵进行了界定，即独立完成和不具有显而易见性；该款 b 项规定，由显而易见的集成电路连接形式相互组合而形成的布图设计，如果从组合整体上符合 a 项所规定的独创性的要求，也能受到法律的保护。该款规定的内容与美国、俄罗斯大致相同。TRIPS 协定对集成电路布图设计受保护的界定，与《华盛顿条约》基本相同。
从形式条件来看，各国主要有三种不同的态度：其一，自动保护主义。即集成电路布图设计在首次被投入商业使用之时就自动受到法律保护，无须到相关部门办理登记。自动保护主义以英国和瑞典为典型。其二，登记保护主义。即对集成电路布图设计的保护以登记作为前提，至于其是否投入商业使用，则在所不问。绝大多数国家采用登记保护主义，如日本《半导体集成电路的线路布局法》规定，线路布局应到通产省办理登记。德国《关于保护微电子半导体产品拓扑图的法律》也明确规定，对半导体产品拓扑图的保护以登记为前提，但登记机关对拓扑图只作形式上的审查。俄罗斯也有类似的规定。其三，登记诉讼主义。即只要集成电路布图设计首次投入商业使用就开始受到法律保护，但进行登记是进行诉讼的先决条件，未登记则无法提出侵权之诉。如根据美国《半导体芯片保护法》的规定，负责掩膜作品登记的部门是国会版权局，一般先由申请人提出申请，由版权局就形式和部分实质内容（独创性内容除外）进行审查，准予登记的，颁发登记证书，并对外公布；未进行登记的，不能提起侵权之诉。《华盛顿条约》和 TRIPS 协定则是采取了灵活的处理方式，即授权各成员国根据本国的实际情况自行选择采取上述的任何一种态度。
从我国的立法情况来看，基本上也是分为实质和形式两个层面来对受保护的布图设计进行限定的。在实质方面，承认受保护的布图设计应当具备独创性，具体内容包括原创性和非常规性两层含义4。在形式方面，采取的是登记保护主义，负责布图设计登记的主管机关是国家知识产权局。国家知识产权局对布图设计的登记申请主要是进行形式审查，基本不涉及实质内容 5。对此，我国学界也有人持不同的看法，如有人认为，布图设计权的形式条件主要有三：一是布图设计必须投入商业使用；二是布图设计必须固化于集成电路之中；三是布图设计必须办理登记手续 6。还有人认为，受保护的布图设计的形式条件有二：一是布图设计必须投入商业使用；二是布图设计必须进行登记 7。应当说，这些看法与我国目前的法律规定明显相悖。
从各国以及国际条约关于布图设计受保护的实质条件的规定来看，无一例外要求具备独创性。而这里的独创性既不是著作权法中所要求的原创性，也不是专利法中所要求的创造性，而是介于这二者之间的一种属性。究其原因，主要是因为：首先，布图设计与作品有着相同之处，二者都是创作者智力成果的体现，但著作权法中的作品更多被关注的是是否为创作者独立完成，至于其对社会的功能效应则在所不问；而布图设计除了要具备作品的原创性外，更多被关注的是其对社会的功能效应 8，即推动集成电路产业的发展，因而它必须具备一定的技术含量。其次，布图设计不需要达到专利法中所要求的创造性的高度，因为布图设计的创造性大多只能体现在加强集成度、提高芯片存储量上，这种“量的创造性”与专利所要求的技术上的“质的创造性”有着本质的区别 9，因而只需与以往的布图设计相比具有进步意义即可。就独创性的立法规定而言，我国与国外在表述方式上存在着一定的差别，但从实质内容上看基本上是一致的。就集成电路布图设计受保护的形式条件而言，英国、瑞典采取的是自动保护主义，俄罗斯、日本、德国采取的是
登记保护主义，美国采取的是登记诉讼主义。我国采取的是登记保护主义，并且与其他采取登记保护主义和登记诉讼主义的国家一样，我国登记机关对布图设计申请的审查原则上只限于形式部分，一般不涉及实质内容。究其原因，主要是因为对布图设计进行实质审查往往技术要求高、耗费时间长，而集成电路一般更新换代快、应用周期短，这样将不利于实现对集成电路布图设计的保护。
三、集成电路知识产权的权利主体
一般而言，世界各国对于集成电路知识产权的权利主体范围并无特别限制，只要符合民事主体的一般要求即可。同时，将集成电路知识产权原则上归属于集成电路布图设计者或创作者，也是国际通例，它体现了“谁创作谁受益”原则，有利于充分调动设计者的积极性，极大推动集成电路产业的发展。当然，除了规定集成电路布图设计专有权一般由创作者享有外，各国法律对集成电路知识产权权利主体的规定还涉及合作设计、委托设计、职务设计等内容，由于时代背景和文化传统的差异，各国在解决上述问题上也存在着明显不同。
俄罗斯相关法律规定，在履行与联邦国家或联邦机构签订的委托合同的过程中产生的布图设计专有权，若合同中并没有明确规定该权利属于作为委托人的联邦国家或联邦机构，那么，该项权利属于履行合同的受托人。该规定涉及受委托创作的集成电路布图设计的权利归属问题，即委托合同明确规定权利归属的，依合同规定；无明确规定的，权利归受托人享有。这体现了意思自治与尊重创作者权利相结合的精神。
美国《半导体芯片保护法》规定，职务设计专有权的享有者为雇主，而非创作者。日本《半导体集成电路的线路布局法》则采取了较为灵活的方式，规定职务设计的专有权的享有应优先尊重当事人的合同约定，若无约定再考虑将专有权授予雇主。上述美国和日本的两条规定都是关于职务布图设计权利归属的，但二者存在明显的区别。前者将职务布图设计专有权无一例外地归属于作为雇主的法人或其他雇主，而后者则视雇用合同或创作合同的约定而
定，无约定的，才应由作为雇主的法人或其他雇主享有职务布图设计专有权。
就外国设计者的主体资格问题，根据美国《半导体芯片保护法》的规定，设计者为美国公民或居民，或其所属国与美国存在着双边或多边条约上的保护依据的，该掩膜作品受到本法保护；掩膜作品的创作者是外国人或无国籍人且该掩膜作品的首次商业使用是发生在美国的，该掩膜作品受到本法保护。该条其实赋予了外国创作者在一定条件下的国民待遇原则。同时，该法第 902 条明确规定，美国对域外掩膜作品的保护仅限于该国对美国的掩膜作品予以同样保护的情形。这其实是在互惠原则的前提下承认外国创作者的主体资格。该法第 914条进一步规定，在他国无法实现对美国掩膜作品保护的情况下，美国贸易委员会秘书处可以决定对该国掩膜作品进行临时保护，但前提条件是该国需为保护掩膜作品作出实质努力且相关立法正处于合理程序之中。这其实是为了推进互惠原则而设置的一个过渡性条款 10。此外，日本、英国、澳大利亚、韩国等国也仿照美国模式确认了在互惠原则下的外国设计者的主体资格。根据《华盛顿条约》的相关规定，对于域外布图设计的保护，各缔约国应相互给予国民待遇。可见，《华盛顿条约》在外国创作者
主体资格的问题上采用的是国民待遇原则。
我国《集成电路布图设计保护条例》在承认布图设计专有权原则上应归属于设计者的同时，又对职务设计、合作设计、委托设计以及外国设计者主体资格问题进行了详细规定 11。在职务设计上，条例规定设计专有权由作为单位的法人或其他组织享有；在合作设计上，条例规定以尊重各合作者的自由选择为前提，若无约定或约定不明的，则应认定为各合作者共同享有设计专有权；在委托设计上，条例规定以委托合同的约定为依据，若无约定或约定不明的，则应认定为受托人享有设计专有权；关于外国设计者的主体资格问题，条例采取的是一定条件下的国民待遇原则和互惠原则。
从上述相关立法规定来看，就受委托创作的集成电路布图设计专有权的归属问题，俄罗斯相关法律规定，若不存在合同中约定设计专有权归作为委托人的联邦国家或联邦机构享有的情况下，布图设计专有权由履行合同的受托人享有。言下之意，在确定委托设计专有权主体资格问题上，应优先考虑当事人在委托合同中的自由选择，若当事人未能对专有权的归属作出约定选择的，才应依法考虑授予受托人权利主体资格。我国立法关于委托设计的相关规
定与俄罗斯立法精神基本一致，所不同的是，俄罗斯关于受委托创作的集成电路布图设计专有权归属的规定只限于联邦国家或联邦机构作为委托人的情形，范围较窄；而我国关于受委托创作的集成电路布图设计专有权归属的规定属于一般性的规定，可适用于委托设计的一切情形，范围较广。就职务设计专有权归属问题，美国将执行单位职务而创作的掩膜作品的专有权归属于单位或雇主，如此规定，主要是因为集成电路的设计往往需要高额的资金投入和先进的科学技术设备，这些依靠单个的自然人的力量是难以实现的，往往需要利用法人或其他单位的物质技术条件才能完成对集成电路的设计。因此，在单位的主持下，根据单位的意志并利用单位的物质技术条件创作的集成电路布图设计，其专有权理应属于单位。而日本则采取了较灵活的方式，认为执行单位职务而创作的集成电路布图设计，其专有权的归属应视创作者与单位或雇主之间的约定而定，若无约定或约定不明确的，则应由单位或雇主享有。我国亦是将执行单位职务而创作的布图设计归属于单位享有，而非创作者本人，在这点上与美国相同。从尊重当事人意志自由的角度出发，笔者认为，日本的立法更值得我国借鉴。就外国创作者的主体资格问题，《华盛顿条约》采取的是国民待遇原则，美国采取的是互惠原则以及有限制的国民待遇原则。互惠原则往往需要通过签订双边条约进行展开和推进，而有限制的国民待遇原则则表现为外国创作者只有在其所属国与保护国存在双边或多边条约的前提下，或其布图设计的首次商业使用是发生在保护国境内的情况下，才能在保护国享受国民待遇，成为布图设计专有权的主体。这二者的结合，一方面尊重了他国利益，另一方面也有利于维护本国利益。从我国的立法规定来看，采取的也是这种态度。
四、集成电路知识产权的权利范围及限制
集成电路知识产权的内容主要包括布图设计复制权和布图设计商业使用权，与此同时，还涉及到布图设计的许可权和转让权。各国立法一般在充分实现布图设计专有权保护的同时，也对其进行一定程度的限制，以维护社会公共利益，促进集成电路产业的发展。
美国《半导体芯片保护法》第 905 条规定，权利人对掩膜作品享有复制的专有权利，以及为商业之目的而使用的专有权利；其他人未经权利人许可不得实施对掩膜作品的复制权和商业使用权。第 906 条 a 项规定，尽管有本法第905 条规定的行为，但仅为教学、研究、分析或评价掩膜作品的概念、技术、所使用的电路、逻辑流程图以及各种元件的布局而对该掩膜作品进行复制的，不视为对掩膜作品专有权的侵害；同时，根据上述分析、评价，重新创作出新的具有独创性的掩膜作品并将其投入商业使用的，亦不视为对原掩膜作品专有权的侵害。
该项规定体现了对掩膜作品复制专有权的两种限制：合理使用（仅为教学、研究等个人目的而复制掩膜作品）和反向工程（为创作出新的具有独创性的掩膜作品而复制、分析、评价他人的掩膜作品）。该法第 907 条规定，并不知晓所进口、销售的半导体芯片产品上的掩膜作品是受到法律保护的，不承担侵权责任；在知晓所进口、销售的半导体芯片产品上的掩膜作品受到保护后，只能对剩余的、仅存的含有该掩膜作品的半导体芯片产品享有商业使用的权利，且必须向掩膜作品权利人支付合理的费用。该条规定其实体现的是对掩膜作品商业使用专有权的限制，即善意侵权。另外，该法还规定，对掩膜作品专有权的保护期限为 10 年。具有相同保护期限的还有日本、英国、德国等国。
1986 年欧共体颁布的《关于半导体产品拓扑图保护的指令》为各成员国制定法律保护半导体产品拓扑图提供了一般的原则和标准，并对拓扑图专有权进行了规定。该指令第五章第三节中规定，拓扑图专有权的效力不及为教学、分析、评价该拓扑图的概念、流程、系统、技术等个人目的而复制该拓扑图的行为。该规定明确体现了合理使用的限制。该指令第五章第四节中规定，在分析、评价拓扑图的基础上创作出另一个具有独创性的拓扑图的，不视为对原拓扑图专有权利的侵犯。该规定则明确体现了反向工程的限制。
瑞典《半导体产品电路的布图设计保护法》第 1 条规定，任何半导体产品电路布图设计的创作人都有权通过商业或非商业使用的方式（包括出租、出借、销售、进口等）为社会公众展现或提供受保护的布图设计以及包含该设计的产品。该条规定了半导体产品电路布图设计的商业使用权 12。俄罗斯相关法律将布图设计专有权的内容分为使用权和禁止权。前者是指将布图设计用于制造集成电路以及对布图设计进行商业使用的权利，后者是指布图设计的创作者或其他权利人有权禁止他人未经许可而行使布图设计使用权。同时，该法还规定，布图设计的使用权甚至专有权能通过合同的方式转让给他人。转让布图设计使用权或专有权的，应签订书面转让合同，并到联邦知识产权行政权力机关办理登记手续。另外，俄罗斯联邦《集成电路布
图设计保护法》还规定了限制布图设计许可使用权的强制许可制度，即在联邦国家或联邦机构委托他人创作布图设计的合同中未约定作为委托人的联邦国家或联邦机构对布图设计享有专有权的，联邦国家或联邦机构有权要求布图设计权利人许可所指定的他人无偿使用布图设计，以实现联邦国家或联邦机构的需要。在保护时间的限制上，俄罗斯规定为 10 年。
我国台湾地区《积体电路线路布局保护法》第 17 条规定，线路布局权利人有权禁止他人未经许可而对线路布局进行部分复制或全部复制，禁止他人未经许可为商业之目的散布、使用线路布局以及使用该线路布局所制成的积体电路。
1989 年的《华盛顿条约》第 3 条规定了布图设计复制权、商业使用权以及许可权，并且商业使用权的范围涉及布图设计、含有布图设计的芯片以及含有该芯片的物品三个层次。而第 6 条第 1 款 a 项又对此作了修改，将商业使用权的范围限定在受保护的布图设计和含有受保护的布图设计的芯片两个层次上。条约第 6 条第 2 款 a 项和 b 项分别规定了合理使用与反向工程。另外，根据《华盛顿条约》的规定，不知道也不应当知道自己所获得的集成电路或含有集成电路的物品中含有非法复制的布图设计而将其投入商业使用的，不应视为非法行为。这其实体现的是善意侵权。《华盛顿条约》
第 6 条第 3 款规定，主管部门认为布图设计的使用关系到国家的重大利益，而相关人员依照商业惯例又未能获得布图设计权利人许可的，在确有必要的情况下，有权要求布图设计权利人许可他人非独占性地使用该布图设计，但被许可人必须向布图设计权利人支付相应的使用费。该款规定体现的即是强制许可。在保护时间的限制上，《华盛顿条约》设定为 8 年以上。
1994 年的 TRIPS 协定采纳了《华盛顿条约》中的大部分条款，但同时也作了一些改进。该协定第 36 条规定了布图设计商业使用权的范围，根据该条规定，布图设计商业使用权的范围涉及布图设计、含有布图设计的芯片以及含有该芯片的物品三个层次。关于善意侵权，TRIPS 协定在《华盛顿条约》规定的基础上增加了应给予权利人补偿的规定，即善意侵权尽管不视为非法，但行为人在收到非法复制的通知后，只能就剩余产品行使商业使用权，并且应向布图设计权利人支付相当于许可使用的费用。关于强制许可，TRIPS 协定第 37 条删除了《华盛顿条约》中关于强制许可的条款，仅规定当发生强制许可时，布图设计应与专利强制许可的要求等同视之。在保护时间的限制上，TRIPS 协定规定为 10 年以上。
我国《集成电路布图设计保护条例》（以下简称《条例》 ） 也对集成电路布图设计的权利范围、权利限制以及保护期限作了相关规定。《条例》 第 7 条第 1 项规定了布图设计复制权，根据该项规定，权利人享有对受保护的布图设计的全部或其中任何具有独创性的部分进行复制的专有权利，即复制布图设计中的非独创性部分，不构成对布图设计专有权的侵犯。《条例》 第 7 条第 2 项规定了布图设计商业使用权，根据该项规定，商业使用权的范围涉及布图设计本身、使用该布图设计制造的集成电路芯片、使用该集成电路芯片所制造的产品三个层次。关于布图设计的许可和转让，《条例》
规定，权利人可以许可他人使用其布图设计，也可以向他人转让其布图设计。关于布图设计专有权的限制， 《条例》第23 条分别规定了合理使用、反向工程以及独立创作 13。《条例》 第 24 条规定了针对布图设计商业使用权限制的权利穷竭 14。《条例》第 25 条和第 33 条分别规定了强制许可和善意侵权 15。在保护时间的限制上， 《条例》 第 12条规定为 10 年。
通过对上述国内外相关规定的比较，可以发现：
首先，从布图设计专有权的范围上看，各国(地区)以及国际条约都一致认为布图设计专有权包括复制权、商业使用权以及许可权、转让权。其中，对复制权的理解，一般都认为是指对受保护的布图设计的全部或其中任何具有独创性的部分进行复制的权利，复制布图设计中的非独创性部分，不构成对布图设计专有权的侵犯。对复制的解释，除了俄罗斯将其限定为利用布图设计制造集成电路的行为，多数国家包括国际条约都认为除了包括利用布图设计制造集成电路，还包括对布图设计本身的重复制造或再现。就商业使用权的理解，美国、瑞典等西方国家强调权利效力的无限延伸思想，认为商业使用权的效力范围涉及布图设计本身、使用该布图设计制造的集成电路芯片、使用该集成电路芯片所制造的任何产品三个层次。我国台湾地区则认为商业使用权的范围只限于线路布局和包含线路布局的积体电路两个层次。而 1989年的《华盛顿条约》则在第 3 条和第 6 条中别规定了以上两种不同的商业使用权范围。究其原因，主要是因为以美国、日本为首的发达国家要求对布图设计商业使用权作无限保护，而广大发展中国家则要求对布图设计商业使用权作有限保护，《华盛顿条约》中的这一矛盾现象正是这两大国家阵营相互博弈的结果。
1994 年的 TRIPS 协定采纳了美国等发达国家的立场，将商业使用权的范围界定为布图设计本身、使用该布图设计制造的集成电路芯片、使用该集成电路芯片所制造的任何产品三个层次。我国为了顺利加入世界贸易组织，在这个问题上采取了与 TRIPS 协定相同的立场。
其次，从对布图设计专有权的限制上看，各国法律以及国际条约一般都规定了合理使用、反向工程、独立创作以及权利穷竭，而且对这四种权利限制情形的解释基本上是相同的。之所以规定合理使用、反向工程、独立创作，是为了提高创作者创作的积极性，促进集成电路产业的发展。而规定权利穷竭，则是为了防止权利人滥用专有权，促进商品自由流通。关于善意侵权的理解，以美国为代表的发达国家尽管承认善意侵权不视为非法，但也同时要求行为人在收到非法复制的通知后只能将现有存货或订货投入商业使用，而且要向权利人支付合理的费用。《华盛顿条约》采纳了广大发展中国家的立场，明确规定善意侵权的情形不视为非法，而且行为人无须向权利人做出补偿 16。而 TRIPS 协定则重新采纳了美国等发达国的立场，在规定善意侵权不视为非法的基础上，增加了应给予权利人补偿的条款。我国关于善意侵权的规定，与 TRIPS 协定大致相同。关于强制许可，美国等发达国家一般并未对此做出规定，俄罗斯则将强制许可限定在联邦国家或联邦机构委托他人创作布图设计而最终未取得布图设计专有权的情形，而且被许可人对布
图设计的使用是无偿的、免费的。《华盛顿条约》规定了一般情形下的强制许可，并且要求被许可人必须向权利人支付一定的使用费。TRIPS协定则采纳了美国等发达国家的立场，删除了《华盛顿条约》中有关强制许可的条款，对强制许可进行了更为严格的限制，即应等同于专利的强制许可。作为发展中国家，我国采取了《华盛顿条约》的基本立场。
再次，从布图设计专有权的保护期限上看，美国、日本、英国、德国等发达国家规定为10年，俄罗斯规定为 10 年，《华盛顿条约》规定为不少于 8 年，TRIPS 协定规定为不少于 10 年。我国与 TRIPS 协定相同，亦规定为 10 年。
综合来看，以美国为代表的发达国家偏重于对个体布图设计专有权的保护，因而强调对布图设计商业使用权范围的无限延伸，对善意侵权进行一定程度的限制，对有关公共利益的强制许可进行坚决抵制或者严格限制，对布图设计专有权的保护规定较长的期限。而发展中国家则注重对公共利益的维护，因而强调对布图设计商业使用权的有限保护，对善意侵权不作过多的限制，肯定国家在一定条件下为了公共利益而实施强制许可，对布图设计专有权的
保护无须规定过长的期限。从国际条约的规定来看，《华盛顿条约》整体上反映了广大发展中国家的要求，而 TRIPS 协定则整体上体现了发达国家的利益。正因为如此，《华盛顿条约》受到了发达国家的抵制而未能生效 17。我国作为发展中国家，为了顺利加入世界贸易组织，在有关布图设计专有权的规定上很大程度迎合了 TRIPS 协定的相关规定，但这其实并非完全符合本国的利益。
注释：
1、郭禾 .《半导体集成电路知识产权的法律保护》载中国人民大学学报，2004 年第 1 期，页 102。
2、如日本的相关立法将集成电路布图设计称之为“线路布局”，欧共体、德国、英国称为“半导体产品拓扑图”，瑞典则使用“半导体电路布图设计”。
3、这些主要是 2001 年国家知识产权局颁布的《集成电路布图设计保护条例实施细则》和《集成电路布图设计行政执法办法》以及最高人民法院发布的《关于开展涉及集成电路布图设计案件审判工作的通知》。
4、参见为我国《集成电路布图设计保护条例》第 4 条的相关规定。
5、参见为我国《集成电路布图设计保护条例》第 8 条的相关规定。
6、郭禾：《半导体集成电路知识产权的法律保护》，载《中国人民大学学报》2004 年第 1 期，页 109。
7、乔煜：《论集成电路知识产权的法律保护》，载《甘肃农业》，2003 年第 5 期，页 52。
8、董炳和：《集成电路布图设计的法律保护及其影响》，载《烟台大学学报》（哲学社会科学版），1997 年第 2 期，页 29。
9、盛大铨：《论集成电路及其布图设计的法律保护》，载《南京邮电学院学报》（社会科学版），2002 年第 4 期，页 31。
10、杨正宇：《新兴权利立法保护“启示录”：激进败笔抑或创新之举——以美国半导体芯片特殊立法保护为例》，载《河南大学学报》（社会科学版），2016 年第 4 期，页 17。
11、我国《集成电路布图设计保护条例》第 9 条第 1 款规定了布图设计专有权原则上应归属于设计者所有；第 9 条第 2 款规定了职务设计；第 10 条规定了合作设计；第 11 条规定了委托设计；第 3 条规定了外国设计者的主体资格问题。
12、Svensk for Fattnings Samling. SFS 1986: 1425. January 20, 1987.
13、条例第 23 条第 3 项规定，对自己独立创作的与他人相同的布图设计进行复制或将该布图设计投入商业使用的，无须经过布图设计权利人许可，也不用向其支付报酬。
14、条例第 24 条规定，布图设计权利人或经其授权的人将受保护的布图设计、含有受保护的布图设计的集成电路以及含有该集成电路的物品投入市场后，他人再次进行商业使用的，无须经过权利人许可，也不用支付任何报酬。
15、条例第 25 条规定，在国家出现紧急状态或非常情况时，或者为了公共利益的目的，或者经人民法院、不正当竞争行为监督检查部门依法认定布图设计权利人有不正当竞争行为而需要给予补救时，国务院知识产权行政部门可以给予使用其布图设计的非自愿许可。第 33 条规定，不知道也没有合理理由应当知道所获得的集成电路和包含集成电路的物品中含有非法复制的布图设计，而将其投入商业使用的，不视为侵权。但行为人在收到非法复制的明确通知后，只能将现有存货或此前的订货投入商业使用，且应当向布图设计权利人支付合理的报酬。
16、Treaty on Intellectual Property in Respect of Integrated Circuits, Adopted at Washington, on May 26, 1989.
17、Semiconductor International Protection Extension of 1991: Hearings on H. R.1999 Before The Subcommittee of Intellectual Property and Judicial Administration of The Committee on The Judicial House of Representatives, 100th Cong, 1st Sess. (1991).